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硅片清洗废水处理案例|硅片清洗废水处理方法

该厂为8屏幕尺寸晶圆出产线配备的超软水机系统,一天制造含硅废液150吨。废液中虽无天价属,但硅水分含量高易水垢,且电阻值率需达标18MΩ·cm功能循环。原本的补救工艺流程没有办法达到新公布的《电子器件鑫霖环保水污染源物废气准则》(GB39731-2020)尤其废气限制值。 焦化废水含量特色 通常环境破坏物 :氢氧化铁硅(200-300mg/L)、粒状硅(孔径0.1-1μm) 独特让 :TOC<10μg/L,硼含量的<5μg/L 饮用水质性能特点 :低导电率(<50μS/cm)但硅有机化合物要素繁多 处里工艺设计具体流程 创新性分为"梯级膜分离法+电去阴阳离子"整合工艺设计: 微滤废水处理工艺 :1μm淘瓷膜拦阻大小粒硅,通量维系80LMH 铁离子调换环氧树脂 :D201大孔树脂材料取舍性吸硅酸团伙 特殊RO设计 :一段收购 率60%,最后段用到高脱硼膜构件 EDI电去铝离子 :工作电流高密度2A/m²,一直清掉多余亚铁离子 红外光谱除菌 :254nm太阳极为线使用量40mJ/cm² 水平难点 联合开发专用的阻硅剂(设计胺类组合物),延长膜破坏过渡期3倍 EDI模块电源创新性流道结构设计,硅彻底清除率升高至99.8% 上线硅数据测试仪(侧量时间范围0.1-500μg/L)体现招商精准操作 工作转化效果 经第三点方加测: 总硅从280mg/L降低0.05mg/L 硼含氧量从8μg/L降落到0.3μg/L 控制系统回报率从原40%提高了至68% 膜根换周期长延时至5年,年启动的成本下降35%

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