某半导体设备发生行业因晶圆家电清洗环节发生含氨生产废水，容量200吨/天。生产废水内除氟化物外还富含氟化物和氢化物发生器巨资属，加工处理高难度大。本县直接排放标淮规定氟化物＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 电镀废水成份及来源地 晶圆洗涤废水处理工艺（关键原因）：含氧化还原电位200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀流程废污水：含进样器铜、镍等血本属，pH值动荡大 CMP精磨废液：含硅小粒及挥发酚 净化处理方法步奏 用到"催化滤渣+膜分離+折点氯化"组合成工艺技术： 预净化处理 ：添加CaCl2除氟，掌控pH在7.5-8. 超滤膜软件 ：的还原0.01μm这粒子物 反侵入浓缩提炼 ：将挥发酚沉淀至1000mg/L及以上 折点氯化 ：准确度管理氯污泥脱水量，将氯离子转成为N2 阴阳离子传递 ：质量保障血本属考核标准 然后疗效 化学需氧量安全稳定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属含铁达不到监测限 水中水回用率达75% 飞灰带来量极大减少40%